LED-Wafer-Prozess
Datum:2011-06-07 17:07
Staat:ungeloest
Frage:admin
ng: Die Auflsung von organischen Lsungsmitteln, mit Ultraschall-Reinigungstechnik kombiniert werden, um organische Verunreinigungen im Silizium Oberflche zu entfernen. Dieses Verfahren erzeugt Biomll Gas und Abflle aus organischen Lsemitteln.
RCA-Reinigung: Reinigung durch Multi-Channel-Silizium-Oberflche zur Entfernung von Partikeln und Metallionen.
Spezielle Verfahren ist wie folgt:
SPM-Reinigung: H2O2-Lsung mit H2SO4-Lsung und die Lsung in einem angemessenen Verhltnis genannt SPM SPM-Lsung mi
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